Освоением производства литографических материалов для производства электроники займется «НИИМЭ» под управлением главы РАН за 1,1 млрд рублей

Министерство промышленности и торговли РФ нашло подрядчика, который займется разработкой и освоением производства литографических материалов для микроэлектронного производства. Контракт по максимальной цене в 1,14 млрд рублей подпишут с АО «Научно-исследовательский институт молекулярной электроники», гендиректором которой является президент РАН Геннадий Красников.

Как следует из технического задания, подрядчику предстоит провести научно-исследовательскую работу (НИР) под шифром «Фотолиз». Ее актуальность объясняется прекращением поставок фоторезистов и антиотражающих покрытий иностранного производства для изготовления субмикронных интегральных схем. Российские разработки аналогичных материалов и их производство в настоящее время отсутствуют.

Фоторезист – это светочувствительный полимерный материал, который наносят на обрабатываемый материал в ходе фотолитографии или фотографировки, чтобы получить на поверхности обрабатываемого материала «окна» для доступа травящих веществ. В настоящее время таким способом получают интегральные схемы в микроэлектронике. Первый в России литограф начали разрабатывать в октябре 2022 года на базе нижегородского института прикладной физики РАН. Оборудование сможет начать полноценную работу к 2028 году, а уже в 2024-м создадут «Альфа Машину», которая сможет проводить полный цикл операций, писал портал CNews.

По итогам НИР подрядчик разработает и наладит производство фоторезистов марок ФР248-01, ФР248-02, ФР248-03, ФР248-04, ФР248-05, а также двух антиотражающих покрытий марок ПА248-01 и ПА248-02. Для этого проведут теоретические и экспериментальные работы, разработают документацию технологического процесса, методики измерений параметров материалов и метрологической экспертизы. Фасовать материалы будут в тару из темного стекла с ориентировочным объемом 3,8 литра.

Испытания будут проводиться путем отбора проб из транспортной тары или ее подключения к оборудованию предприятия-потребителя, а измерение счетной концентрации частиц в технологическом оборудовании исполнителя. Опытная партия материалов для проведения испытаний должна быть получена на установках со следующей производительностью:

марки ФР248-01, не менее 1000 кг/год;марки ФР248-02, не менее 360 кг/год;марки ФР248-03, не менее 780 кг/год;марки ФР248-04, не менее 430 кг/год;марки ФР248-05, не менее 80 кг/год; марки ПА248-01, не менее 1000 кг/год;марки ПА248-02, не менее 470 кг/год.Потенциальными потребителями фоторезистов станут АО «Микрон» и ООО «НМ-Тех». В октябре Минпромторг заявил о подписании соглашения, в рамках которого специалисты завода «Микрон» помогут компании «НМ-Тех», которая перезапускает обанкротившийся завод «Ангстрем-Т» экс-министра связи Леонида Реймана, наладить выпуск чипов для банковских карт и биометрических паспортов, а также медицинских полисов. Завершить работы подрядчику надлежит до 12 декабря 2025 года. Аукцион проводился в рамках 44-ФЗ. АО «НИИМЭ» основано в июле 2011 года в Зеленограде. Генеральным директором является Геннадий Красников, а конечным владельцем – АО «РТИ Микроэлектроника», следует из данных Контур.Фокус. На сайте АО говорится, что она является полным правопреемником ОАО «СИТРОНИКС» по всем правам и обязанностям в соответствии с разделительным балансом в сфере микроэлектроники. В свою очередь Геннадий Красников с 20 сентября 2022 года избран главой Российской академии наук. Академик также является заведующим кафедрой «Микро- и наноэлектроника» в Московском физико-техническом институте. Возглавляет кафедру «Субмикронная технология СБИС» в Национальном исследовательском университете МФТИ. В портфеле «НИИМЭ» 75 заключенных государственных контрактов на общую сумму в 10,2 млрд рублей. Деятельность компании по итогам 2020 года принесла 3,8 млрд рублей выручки и 105,2 млн рублей прибыли.